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반도체 분야에 PAG를 적용하면 반도체 재료의 정밀하고 제어된 패터닝이 가능하며, 이는 고성능 및 소형화를 갖춘 첨단 반도체 장치를 제조하는 데 필수적입니다.
무작위 제품
2-(2,6-디옥소-피페리딘-3-일)-4-플루오로이소인돌린-1,3-디온
2-(2,6-디옥소피페리딘-3-일)-5-히드록시이소인돌린-1,3-디온
니켈(II) 브로마이드 2-메톡시에틸 에테르 착물
디브로모(4,4'-디-tert-부틸-2,2'-비피리딘)니켈
1,3-비스(2,6-디이소프로필페닐)이미다졸-2-일리덴](3-클로로피리딜)팔라듐(II) 이염화물
(S)-3,3'-비스(9-안트라세닐)-1,1'-비나프틸-2,2'-디일 수소인산염
(5aS,10bR)-2-메시틸-4,5a,6,10b-테트라히드로-2H-인데노[2,1-b][1,2,4]트리아졸로[4,3-d][1,4] 옥사진-11-ium 테트라플루오로보레이트
(5aR,10bS)-5a,10b-디하이드로-2-(2,4,6-트리메틸페닐)-4H,6H-인데노[2,1-b][1,2,4]트리아졸로[4,3-d ][1,4]옥사지늄클로라이드
테트라키스(아세토니트릴)구리(I) 테트라플루오로보레이트
1,3,5-트리아자-7-포스파아다만탄
(S)-4-tert-부틸-2-[2-(디페닐포스피노)페닐]-2-옥사졸린
(S)-2-[2-(디페닐포스피노)페닐]-4-이소프로필-4,5-디히드로옥사졸
(S)-(-)-5,5'-비스(디페닐포스피노)-4,4'-비-1,3-벤조디옥솔
(R)-C3-TUNEPHOS
(R)-(+)-2,2'-비스(디페닐포스피노)-1,1'-비나프탈렌
2-(트리플루오로메톡시)에탄올
(2R)-1-[(1R)-1-(디시클로헥실포스피노)에틸]-2-(디페닐포스피노)페로센
2,6-비스[(4S)-4-페닐-2-옥사졸린-2-일]피리딘
6,7-디하이드로-2-페닐-5H-피롤로[2,1-c]-1,2,4-트리아졸륨 테트라플루오로보레이트
2-메시틸-6,7-디하이드로-5H-피롤로[2,1-c][1,2,4]트리아졸-2-윰 테트라플루오로보레이트
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